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bruker Dektak Pro台阶仪介绍
BrukerDektakPro布鲁克台阶仪DektakPro™以其多功能,使用的便捷性和在薄膜厚度、台阶高度、应力、表面粗糙度和晶圆翘曲测量方面广受赞许。第十一代Dektak®系统,具有4Å重复性的表现,并提供200毫米平台选项,在科研以及工业领域中可以为材料的表面形貌提供各种分析。DektakPro在表面测量方面设立了新的目标,是微电子......
等离子去胶机是适用于硅基半导体及化合物半导体前后道的等离子体去胶设备,主要用于光刻胶的剥离或灰化,也可用于有机及无机残留物的去除,去除残胶以及等离子刻蚀的应用,清洗微电子元件、电路板上钻孔或铜线框架,提高黏附性等,它的设计紧凑,占地面积小,设备运行稳定可靠、易于维护、产能高。它的工艺简单、效率高,处理后无酸气废水等残留......
等离子刻蚀机,又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀,是干法刻蚀中最常见的一种形式,其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体,由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体,从而形成了等离子或离子,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材......
X射线光电子能谱分析X射线光电子能谱法(X-rayPhotoelectronSpectrom-----XPS)在表面分析领域中是一种崭新的方法。虽然用X射线照射固体材料并测量由此引起的电子动能的分布早在本世纪初就有报道,但当时可达到的分辩率还不足以观测到光电子能谱上的实际光峰。直到1958年,以Siegbahn为首的一......
优势一、清洗对象经等离子清洗之后是干燥的,不需要再经干燥处理即可送往下一道工序。可以提高整个工艺流水线的处理效率;二、等离子清洗使得用户可以远离有害溶剂对人体的伤害,同时也避免了湿法清洗中容易洗坏清洗对象的问题;三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶剂,这样清洗后不会产生有害污染物,因此这种清洗方法属于环保的绿色清洗方法。......
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